323.第323章 不是智云不好，而是我配不上它 (第4/16页)
划对现有的三座十八纳米工艺的晶圆厂进行技术升级，以支持十四纳米工艺的生产。
主要是因为现在智云微电子现有的三座十八纳米工艺上所使用的核心设备，如光刻机，蚀刻机等都是当下最顶级的设备，也是可以满足十四纳米工艺的生产需求的。
因此这三座工厂只需要对部分辅助设备进行升级，对工艺进行改进那么就可以无缝转产十四纳米工艺的芯片。
甚至，这三座工厂未来，其实都还能进一步升级到等效十二纳米、等效十纳米工艺……反正都是双重曝光，对核心设备的要求差别不会很大，只需要对部分非关键设备，工艺进行改进就行了。
今年下半年陆续出货的海湾科技HDUV-500光刻机，该光刻机的套刻精度三点五纳米，支持高精度双重曝光，这款光刻机是能满足10-22纳米工艺的。
真正难搞的是需要四重曝光的等效七纳米工艺……这个级别的工艺还需要更先进，套刻精度更高的光刻机。
海湾科技那边暂时还没有满足该精度的光刻机，预计中的HDUV-600，也就是套刻精度二点五纳米的光刻机要到明年下半年才能推出。
ASML那边的这种级别的光刻机，预计也是明年左右出货。
某
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