311.第311章 未来的万亿美元市场 (第2/22页)
题，不过我们正在加大力度进行转向的技术攻关，我们争取在未来的两年里解决这个技术难题。”
“只要解决这个两点五纳米的套刻的技术难题，那么我们的光刻机就能够进行高效的，高良率四重曝光，而高良率四重曝光技术则是可以用于等效七纳米工艺的大规模量产！”
“尽管我们和ASML还存在一定的技术差距，但是这种技术差距并不是不可跨越的，毕竟我们已经解决了最难的镜片以及光源部分，还解决了双工作台问题，如今我们只需要稳扎稳打，持续的进行技术优化，逐步提升，就能够把这个套刻精度逐步提升起来！”
徐申学道：“如此看来，我们的DUV浸润式光刻机应该是稳了，未来七纳米工艺也问题不大了。”
“那么七纳米工艺以下呢？我们正在搞的600型光刻机能否进一步突破极限，做到等效五纳米的芯片？”
王道林此时道：“七纳米工艺问题不大，而五纳米工艺的话虽然理论上可以通过多重曝光，比如八重曝光，使用现有DUV浸润式光刻机的134纳米波长的光源，也能用来制造等效5纳米工艺的芯片。”
“但是这需要光刻机提供更高的套刻精度，这样才能够在多重曝光的时候，每一次都对准芯片进行曝光。”
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