311.第311章 未来的万亿美元市场 (第4/22页)
需要深挖DUV浸润式光刻机的极限了。
不仅仅是自己这边的问题，对面的英特尔和台积电，四星等也存在同样的问题……因为他们也没EUV光刻机可用！
原时空里他们可以直接用EUV光刻机玩七纳米甚至五纳米，但是这个时空里……徐申学微笑着对他们说：我没得用，你们也不能用！
你们不能抢跑，这不是体面人该做的事！
你们要是不体面，我就帮你们体面！
至于说什么规矩不规矩，事关几千亿美金的电子消费以及半导体市场，背后是一整个电子消费以及半导体产业链，影响数以千万计的就业岗位……
规矩？
老子的火箭弹就是规矩！
现在老老实实的待在原地和我一起玩DUV浸润式光刻机……然后我们各自琢磨如何用DUV浸润式光刻机生产七纳米甚至五纳米工艺的芯片！
这也挺好玩的不是！
这个时候，如何利用DUV浸润式光刻机进一步推进工艺，这就成为了很重要的问题。
实际上在28纳米开始，各半导体厂商就已经开始着手这个问题并进行解决了，使用双重曝光，使用3D晶体管等技术。
这些都是为了在现有DUV浸润
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