311.第311章 未来的万亿美元市场 (第6/22页)
个套刻精度我们规划是放在EUV光刻机上的，而且还是第二代EUV光刻机！”
“我们规划中的第一代EUV光刻机，设计采用的还是两纳米的套刻精度呢，设计指标是主要用于等效七纳米工艺的生产。”
“规划中的第二代EUV光刻机，才会使用一点五纳米的套刻精度，继而实现等效五纳米的工艺节点！”
听着王道林的话，徐申学道：“EUV光刻机这事，还是要加速研发，争取三年内弄个样机出来！”
王道林道：“样机的话，倒是有一定把握，但是要要距离完全实用化，恐怕会很久！”
“目前我们在EUV光刻机的技术推动上，还存在大量需要解决的技术难题。”
“其中光源部分还算是比较容易的，因为我们获得了不少国外的EUV光源的技术，甚至连整个光源系统的完整设计方案都有，但是即便是相对容易的光源部分，我们现在搞起来也非常麻烦。”
“虽然我们获得了完整的EUV光源设计方案，却是没有相应的设备，材料，加工工艺把它造出来。”
“如今我们在光源领域，是巧妇难为无米之炊，方案不少，但是全都是因为缺乏材料或零部件无法成行！”
“为此，我们已经被迫
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